随着我国经济再次上升，中国人民对电子技术和电子产品的需求也在不断提高。像是芯片等行业开始了稳步向上的发展。而在与电子行业相关的产业发展中我们还发现了超纯水市场也在蓬勃发展。

　　超纯水作为电子行业中的清洗用水，在芯片、半导体生产中必不可少。目前传统的超纯水制备工艺都需要定期进行树脂再生，既耗费物力又浪费人工，所以人们开始应用一种新型的EDI超纯水系统来进行制备超纯水，效果显著，出水水质也是稳定的。而该系统的核心工艺就是应用了反渗透膜技术，该膜组件具有高脱盐率，高抗污染，对硼、硅、锗等元素的高去除率，TOC溶出率更低，从而减小后续系统处理压力，提高后续系统的使用周期和使用效果。

　　反渗透膜在EDI超纯水系统中体现的技术优势：

　　1、反渗透膜组件的脱盐率很高，单级反渗透脱盐率一般可稳定在97%以上，双级反渗透脱盐率一般在99%以上。

　　2、反渗透膜可以有效去除细菌等微生物、有机物，以及金属元素等无机物，出水水质优于其他方法。

　　3、应用反渗透膜组件制备超纯水运行成本及人工成本低廉，减少环境污染。

　　4、减缓了源水水质波动而造成的产水水质变化，从而有利于生产中水质的稳定，这对纯水产品质量的稳定有积极的作用。

　　5、可减少后续处理设备的负担，从而延长后续处理设备的使用寿命。

　　以上，就是关于反渗透膜在半导体行业所需超纯水设备中体现的技术优势的介绍。反渗透膜生产超纯水的工艺已经很成熟，并且该技术水通量大，化学清洗周期长，出水水质稳定，特别适用于电子级超纯水EDI系统前处理，可以有效地控制电子级超纯水系统的TOC含量。