项目名称：半导体器件清洗废水综合治理工程

业主方：安徽省祁门县黄山电器有限责任公司

项目地址：安徽省黄山市

项目规模：600吨/天

工程数据

主体工艺：混凝沉淀+高级氧化+生化 (生物脱氮)

处理前：氨氮350mg/L，氟大于150mg/L，总磷大于150mg/L，COD1200mg/L

处理后：氨氮15mg/L，总磷 3mg/L，氟离子 5mg/L，COD200mg/L

排放标准：纳管排放标准

工程详述

优势特色：1、系统运行稳定。2、运行成本低

详情说明：黄山电器有限公司，是国内专业从事半导体器件研发制造的行业骨干企业。

生产废水主要来源于硅片清洗、半导体器件、配件清洗、电镀、酸洗等工艺环节。上   述废水中主要特点为高氨氮、高磷、含氟、含重金属等。                                            工程服务

建设工期：180天，含验收